智研瞻产业研究院发布：《中国光刻胶行业“专精特新”发展研究及投资战略规划报告》
光刻胶行业概述
光刻胶，亦称为光致抗蚀剂，是一种独特的耐蚀刻薄膜材料，其显著特性在于能够通过紫外光、电子束、离子束或X射线等光源的照射或辐射，导致其溶解度发生显著变化。该材料主要由三大核心成分构成：感光树脂作为其核心反应物质，增感剂则用于增强对光线的敏感度，而溶剂则负责将这些成分混合成一种对光极为敏感的液态混合物。光刻胶在微电子制造、半导体工艺及先进显示技术等领域中扮演着至关重要的角色，是实现精细图形加工与蚀刻的关键材料。
光刻胶行业产业链
光刻胶行业的产业链可以清晰地划分为上中下游。上游主要涉及原材料与设备供应，其中感光树脂、光引发剂、溶剂以及单体和其他助剂等是光刻胶的关键原材料，对整体性能有着重要影响。同时，光刻胶生产设备与测试设备也是确保产品质量的关键。中游则是光刻胶的制造环节，由晶瑞电材、南大光电、华懋科技等具备先进技术实力的企业构成，他们将上游的原材料转化为各类光刻胶产品，包括用于印刷电路板（PCB）、液晶显示面板（LCD）和半导体芯片制造的光刻胶。这些产品以其高精度和高质量要求，在制造过程中发挥着关键作用。下游则是光刻胶的应用领域，涵盖了印刷电路板、显示面板和电子芯片等行业，光刻胶在这些领域中扮演着形成电路图案和像素结构的重要角色。随着5G、物联网、大数据等领域的快速发展，光刻胶的市场需求持续增长，尤其是在半导体领域，高端光刻胶的需求日益旺盛。国内企业正积极投入研发和生产，以应对市场需求，并推动光刻胶行业的持续发展。
光刻胶行业分类
光刻胶，亦称光致抗蚀剂，是一种对光照敏感的复合液体，关键应用于微电子制造中的细微图案加工。根据应用领域的不同，光刻胶可以被分类为PCB（印制电路板）光刻胶、LCD（液晶显示）光刻胶和半导体光刻胶，其中半导体光刻胶对工艺的精细程度要求最高。具体来说，PCB光刻胶主要用于电路板的制造，技术门槛相对较低，但在光刻胶市场中占有一席之地，用于形成电路图案以实现高精度快速生产。LCD光刻胶则应用于液晶显示屏的制备过程，包括彩色滤光片、TFT（薄膜晶体管）和触摸屏等部分的制造，在全球光刻胶市场中占有一定的比例，技术相对成熟。半导体光刻胶是技术要求最高的一类，主要用于晶圆制造过程中的微细图形加工。由于摩尔定律推动集成电路密度不断增加，半导体光刻胶的技术难度也在不断提高，中国光刻胶行业报告：概述产业链政策环境市场规模预测及发展前景分析需要具备极高的分辨率和精确度。在全球范围内，日本企业在半导体光刻胶领域占据主导地位。
光刻胶行业发展历程
光刻胶行业的发展历程历经了多个阶段，展现了显著的技术进步和市场扩展。在早期探索阶段，法国人发现了沥青的感光性质，随后人造合成材料的感光性也相继被发现，为光刻胶的诞生奠定了基础。到了20世纪中期，美国柯达公司成功研制出第一个聚乙烯醇肉桂酸酯光固化性能的光刻胶，标志着光刻胶正式进入产业化时代。随后，IBM公司发明的聚甲基丙烯酸甲酯电子束光刻胶，极大地推动了光刻胶在半导体制造领域的应用。进入1990年代，随着半导体制程的飞速进步，光刻胶的需求急剧增加，特征尺寸不断缩小，光刻技术也向电子束投影光刻转变。进入21世纪，光刻胶行业迎来了技术创新与多元化发展阶段。Intel等公司开始研发极紫外（EUV）光刻技术，为光刻胶技术带来了革命性的进步。中国也在这一领域取得了重要突破，成功完成了国家科技重大专项“极紫外光刻胶材料与实验室检测技术研究”。光刻胶市场规模持续增长，预计到2026年将超过120亿美元。同时，随着半导体制程向5nm、3nm等先进制程的迈进，对高端光刻胶的需求将进一步增加。在竞争格局方面，光刻胶市场目前呈现出较为集中的态势，国际巨头企业占据显著市场份额。然而，随着国内企业技术水平的提升和研发投入的增加，光刻胶的国产化替代趋势愈发明显，华为、南大光电、彤程新材等企业已在光刻胶领域取得显著突破。展望未来，光刻胶行业将继续保持增长态势，技术壁垒和市场需求将推动国产企业加大研发投入，提升技术水平。同时，环保和可持续发展将成为行业发展的重要方向，企业需要关注环保法规的变化，并积极研发绿色生产技术。
我国光刻胶行业市场规模和增长率
2024年，中国光刻胶行业预计将迎来新一轮的增长高潮，市场规模有望进一步扩大至114.4亿元，增长率预计达到7%。这一乐观预测根植于光刻胶在半导体、平板显示及PCB等核心工业领域的不可或缺性，同时得益于国内外晶圆厂产能扩张项目的稳步推进与逐步落地。光刻胶作为这些高科技产业中的关键材料，其市场需求随着全球半导体产业的蓬勃发展，特别是中国大陆晶圆厂产能的持续扩张而持续增长。此外，各国政府，包括中国在内，纷纷出台了一系列政策措施以鼓励半导体产业的创新发展，其中《中国制造2025》战略更是明确将半导体产业作为重点发展领域，为光刻胶市场开辟了更为广阔的市场空间。为加速摆脱对进口光刻胶的依赖，中国正积极推进国产光刻胶的研发与产业化进程，通过加大研发投入和技术创新，不断提升国产光刻胶的技术水平和市场竞争力，以期在未来市场中占据更大的份额。
据智研瞻统计显示，2019年中国光刻胶行业市场规模82.23亿元，2024年H1中国光刻胶行业市场规模57.2亿元，同比增长7%。2019-2024H1年中国光刻胶行业市场规模如下：
光刻胶行业政策环境
光刻胶作为半导体、平板显示等高科技产业的核心材料，其政策环境对行业成长具有举足轻重的作用。近年来，中国政府为助力光刻胶产业发展，实施了一系列综合性政策措施。这包括通过税收优惠和专项资金支持，减轻企业研发负担，激发创新活力；制定明确的产业发展规划，如“中国制造2025”等，为光刻胶行业指明发展方向，引导企业精准布局；同时，强化技术创新与人才培养，搭建创新平台，促进产学研深度融合，并引进国际先进技术与管理经验，以提升国内企业的核心竞争力。此外，政府还致力于推动产业链上下游协同合作，优化资源配置，提升整体效率，并鼓励企业“走出去”，拓展国际市场。值得一提的是，地方政府也纷纷出台配套扶持政策，如潍坊市的专项措施，为光刻胶产业发展提供了更加具体、有力的支持。这一系列政策组合拳，为光刻胶行业的持续健康发展奠定了坚实基础。
光刻胶行业存在问题
光刻胶行业当前面临的挑战错综复杂，主要聚焦于技术、产业链及商业化三大层面。
1、技术难题与依赖进口问题显著，由于行业技术门槛高，尤其是半导体光刻胶的严苛要求，我国光刻胶行业在技术积累上尚显不足，与国际先进水平存在差距，导致高端光刻胶领域高度依赖进口，这不仅推高了生产成本，也束缚了我国半导体产业的自主发展步伐。
2、产业链薄弱与供应链整合能力不足是另一大瓶颈。光刻胶产业链的上游原材料如树脂、单体等核心部件国产化率较低，仍需大量进口，这在上游环节就构成了严峻挑战。同时，整个产业链从原材料供应到成品制造，再到下游应用，整合能力不强，影响了产业链各环节的协同效率与整体发展。
3、光刻胶的商业化之路亦非坦途。市场需求受半导体、平板显示等下游产业波动影响大，需求不稳定增加了市场的不确定性。此外，技术更新换代迅速，要求企业不断加大研发投入以跟上市场步伐，但高昂的研发成本与漫长的研发周期让众多企业望而却步，进一步加大了商业化难度。
光刻胶行业发展前景预测
随着全球半导体产业的蓬勃发展和晶圆厂产能的持续扩大，光刻胶作为关键材料，其市场需求展现出强劲的增长态势。预计到2024年，中国光刻胶市场规模将攀升至114.4亿元，并有望在未来几年内保持稳健增长。技术创新与国产化进程成为行业发展的重要驱动力，特别是新型光刻胶技术的突破，为EUV光刻胶等前沿领域奠定了坚实基础。同时，市场需求方面，光刻胶的应用领域日益广泛且多样化，不仅限于半导体，还涵盖平板显示、PCB等多个行业。此外，人工智能、物联网等新兴技术的发展也拉动了光刻胶市场的增长。政策支持与产业链协同发展也是光刻胶行业发展的有力保障，中国政府在《中国制造2025》等战略中明确将半导体产业列为重点发展对象，为光刻胶市场注入了强劲动力。随着半导体产业链的日益完善与整合，光刻胶企业与上下游合作伙伴之间的协作日益紧密，共同提升产业链的整体效率与竞争力，促进光刻胶市场的健康、可持续发展。
据智研瞻预测，2024-2030年中国光刻胶行业市场规模增长率在5.69%-7%，2030年中国光刻胶行业市场规模164.55亿元，同比增长5.69%。2024-2030年中国光刻胶行业市场规模预测如下：
